特許
J-GLOBAL ID：201303015373263970

キシレンの異性化プロセスおよびそのための触媒

発明者：
オウ ジョン ディー イー

オウ ジョン ディー イー について

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ロス エイプリル ディー

ロス エイプリル ディー について

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レヴィン ドロン

レヴィン ドロン について

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カルヤーナーラマン モハン

カルヤーナーラマン モハン について

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ライ ウェンイー エフ

ライ ウェンイー エフ について


出願人/特許権者：
エクソンモービル ケミカル パテンツ インコーポレイテッド

エクソンモービル ケミカル パテンツ インコーポレイテッド について


代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-506168
公開番号（公開出願番号）：特表2013-528576
出願日： 2011年04月06日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
本発明は、平衡状態または平衡状態近傍のキシレンを生産するための、キシレンの異性化プロセスに関する。本プロセスは、HZSM-5またはMCM-49を含む触媒、ならびに295°C未満の温度、およびキシレンを液相に維持するのに十分な圧力を含むプロセス条件を活用する。いくつかの実施形態では、本プロセスは、供給物中のppmレベルの溶存H2を用いて、連続モードで動作し得、その他の実施形態では、本プロセスは、供給物中にH2はないが、低ppmレベルのH2を有する供給物を使用する定期的な再生を行って、循環モードで動作し得る。
請求項（抜粋）：
C8芳香族炭化水素を含む供給物ストリームであって、低ppmレベル以下の溶存H2を有することを特徴とし、キシレン中の平衡状態のPXの量に比してPXが乏しいことをさらに特徴とする供給物ストリームを、キシレンの異性化に適している触媒と、反応器中、295°C未満の温度およびキシレンを液相に維持するのに十分な圧力を含む条件下で接触させるステップと、液相の前記キシレンを異性化して、前記供給物ストリーム中のPXの濃度に比して増加した濃度のPXを有する生成物ストリームを得るステップとを含むプロセス。
IPC (6件)：
C07C 5/13 ,  C07C 15/08 ,  B01J 29/40 ,  B01J 29/70 ,  B01J 29/90 ,  B01J 38/10
FI (6件)：
C07C5/13 ,  C07C15/08 ,  B01J29/40 Z ,  B01J29/70 Z ,  B01J29/90 Z ,  B01J38/10 B
Fターム (50件)：
4G169AA02 ,  4G169AA09 ,  4G169AA10 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA10A ,  4G169CB42 ,  4G169DA06 ,  4G169DA07 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC01X ,  4G169EC01Y ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB67 ,  4G169FC05 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4G169GA05 ,  4G169ZA01A ,  4G169ZA11A ,  4G169ZA11B ,  4G169ZA36A ,  4G169ZA36B ,  4G169ZC01 ,  4G169ZC04 ,  4G169ZE02 ,  4G169ZF02A ,  4G169ZF02B ,  4H006AA02 ,  4H006AC14 ,  4H006BA71 ,  4H006BA85 ,  4H006BC10 ,  4H006BC14 ,  4H006BC32 ,  4H006BE20 ,  4H006DA12 ,  4H006DA25 ,  4H006DA30 ,  4H006DA46 ,  4H039CA19 ,  4H039CJ10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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