特許
J-GLOBAL ID：201303015547336122
スキム天然ゴムの製造方法、被処理スキム、スキム天然ゴム、ゴム組成物、及びタイヤ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
杉村 憲司
, 冨田 和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-070045
公開番号（公開出願番号）：特開2013-199619
出願日： 2012年03月26日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
要約：
【課題】天然ゴムラテックス中の非ゴム成分を効果的に低減し、ゴム成分を高収率で回収することのできるスキム天然ゴムの製造方法を提供する。また、天然ゴムラテックス中の非ゴム成分が効果的に低減された高純度の被処理スキム及びスキム天然ゴム、並びに、破壊特性が高く、低ロス性に優れるゴム組成物及びタイヤを提供する。【解決手段】天然ゴムラテックスを濃縮処理してスキムを生成させるスキム生成工程と、 該スキムを加圧濾過し、その残渣液を得る加圧濾過工程とを含むことを特徴とするスキム天然ゴムの製造方法、該スキム天然ゴムの製造方法において得られる被処理スキム、該スキム天然ゴムの製造方法で製造されたスキム天然ゴム、該スキム天然ゴムを用いたゴム組成物及びタイヤである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
天然ゴムラテックスを濃縮処理してスキムを生成させるスキム生成工程と、
該スキムを加圧濾過し、その残渣液を得る加圧濾過工程と
を含むことを特徴とするスキム天然ゴムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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