特許
J-GLOBAL ID：201303015932777296
選択的水素化脱ハロゲン化方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 福本 積
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-588098
特許番号：特許第4828701号
出願日： 1999年12月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】クロロジフルオロ酢酸からなる基質を、
-水性相、
-塩基、
-周期律表の第VIII族に属しかつ周期律表の第4周期又は第6周期に属する金属、及び、
-水素分圧が少なくとも50kPaである気相と平衡した濃度で前記水性相に溶解している水素、
を含む反応体と接触させる工程を含み、
該塩基はアルカリ金属、アルカリ土類金属及びアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、酸化物及び塩基性塩並びにそれらの混合物から選ばれ、そして該工程は周囲温度から150°Cの温度、および少なくとも4のpHで行なわれることを特徴とする、選択的水素化脱ハロゲン化方法。
IPC (2件)：
C07C 51/377 ( 200 6.01)
, C07C 53/18 ( 200 6.01)
