特許
J-GLOBAL ID：201303016184852170
大きいサイズのシリコーン粒子を含むエマルション
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-210458
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040091
特許番号：特許第4717182号
出願日： 2000年07月11日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 以下の工程:
(i)シラノールで末端がブロックされたシロキサンオリゴマーと、水と、非イオン性界面活性剤またはアニオン性界面活性剤と、任意成分であるトリアルコキシシランとを組み合わせる工程、
(ii)前記シラノールで末端がブロックされたシロキサンオリゴマーを乳化し、前記成分を攪拌または剪断することによって、エマルション中に、少なくとも1ミクロン(μm)の平均粒径を備えた粒子を形成する工程、
(iii)シラノールで末端がブロックされたシロキサンオリゴマーの前記エマルションに、縮合特異的酸触媒を添加する工程、
(iv)シラノールで末端がブロックされたシロキサンオリゴマーを重合して、オルガノポリシロキサンポリマーを生成する工程、および
(v)得られたオルガノポリシロキサンポリマーの粘度が所望の値に増大するまで重合工程(iv)を続ける工程
を含み、
前記縮合特異的酸触媒が、式R2C6H3SO3Hのジアルキルベンゼンスルホン酸および式R2C10H5SO3Hのジアルキルナフタレンスルホン酸[式中、Rは1-20の炭素原子を有するアルキル基を示す]から選択されるジアルキルスルホン酸触媒であり、
前記シラノールで末端がブロックされたシロキサンオリゴマーが、以下の構造:
(式中、R1〜R6基は、1〜6個の炭素原子を含むアルキル基、およびアリール基から選択され、nは、2〜300である)
を有し、かつ
エマルションの調製に用いられる水の量が、エマルションの全重量に対して10〜90重量パーセントであり、
前記アニオン性界面活性剤として前記ジアルキルスルホン酸を用いる場合には、工程(iii)を省くことができ、
前記トリアルコキシシランが、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシランおよびフェニルトリメトキシシランからなる群から選択される、
少なくとも1ミクロン(μm)の平均粒径を備えたオルガノポリシロキサンポリマーの粒子を含むエマルションを調製する方法。
IPC (2件)：
C08G 77/08 ( 200 6.01)
, C08G 77/16 ( 200 6.01)
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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