特許
J-GLOBAL ID：201303016643746567
インプリントモールドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
皿田 秀夫
, 米田 潤三
, 太田 昌孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-153708
公開番号（公開出願番号）：特開2013-021153
出願日： 2011年07月12日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：
【課題】 生産性の高いインプリントモールドの製造方法を提供する。【解決手段】 フォトリソグラフィを用いて凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第1基板の一方の面の間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第1反転凹凸構造を有する第1転写層を形成する第1転写層形成工程と、前記第1転写層と前記マスターモールドを離し、前記第1転写層を備えた前記第1基板を得る第1剥離工程と、を含み、前記マスターモールドの一方の面の外形で規定されるエリアSmと、前記第1基板の一方の面の外形で規定されるエリアSpを対比した場合、エリアSmがエリアSpを物理的に包含する関係にあるように構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィを用いて凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第1基板の一方の面の間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第1反転凹凸構造を有する第1転写層を形成する第1転写層形成工程と、
前記第1転写層と前記マスターモールドを離し、前記第1転写層を備えた前記第1基板を得る第1剥離工程と、を含み、
前記マスターモールドの一方の面の外形で規定されるエリアSmと、前記第1基板の一方の面の外形で規定されるエリアSpを対比した場合、エリアSmがエリアSpを物理的に包含する関係にあることを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B29C 33/38
, B29C 59/02
, B81C 99/00
H01L21/30 502D
, B29C33/38
, B29C59/02 Z
, B81C99/00
3C081CA23
, 3C081CA37
, 3C081DA46
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AJ01
, 4F202AJ08
, 4F202CA09
, 4F202CA19
, 4F202CB29
, 4F202CD02
, 4F202CD05
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PG01
, 4F209PQ11
, 5F146AA32
