特許
J-GLOBAL ID：201303016884280550

光干渉システム及び基板処理装置

発明者：
永井 健治

永井 健治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二 ,  大森 鉄平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-116811
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242267
出願日： 2012年05月22日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】反射スペクトラムの損失を抑えることができる光干渉システム及び基板処理装置を提供する。【解決手段】光干渉システムは1、光源10、カップラ41、複数のコリメータ12A,12B、コリメータ42、ミラー43、分光器14及び演算装置15を備える。コリメータ42及びミラー43は、第1入力端を除く複数の入力端側に設けられ、複数の出力端からの戻り光を複数の出力端へ再度伝送する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1主面及び前記第1主面に対向する第2主面を有する測定対象物の厚さ又は温度を計測する光干渉システムであって、 前記測定対象物を透過する波長を有する測定光の光源と、 複数の入力端及び該入力端に対応する複数の出力端を備え、前記複数の入力端の少なくとも一つを前記光源からの測定光を入力する第1入力端とするカップラと、 前記カップラの複数の出力端のそれぞれに接続され、測定光を前記測定対象物の前記第1主面へ出射するとともに、前記第1主面及び前記第2主面からの反射光を入射する複数のコリメータと、 前記第1入力端を除く前記複数の入力端側に設けられ、前記複数の出力端からの戻り光を前記複数の出力端へ再度伝送する伝送機構と、 前記第1入力端に接続され、波長に依存した強度分布であって前記第1主面及び前記第2主面からの前記反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する分光器と、 前記分光器に接続され、前記干渉強度分布をフーリエ変換して得られる波形に基づいて前記測定対象物の厚さ又は温度を計測する計測部と、 を備える光干渉システム。
IPC (2件)：
G01B 11/06 ,  G01B 9/02
FI (2件)：
G01B11/06 G ,  G01B9/02
Fターム (27件)：
2F064EE01 ,  2F064GG00 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG24 ,  2F064GG44 ,  2F064GG49 ,  2F064HH02 ,  2F064HH07 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA30 ,  2F065FF52 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL00 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL42 ,  2F065LL67 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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