特許
J-GLOBAL ID:201303016937651114
中温化学蒸着処理
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-602831
特許番号:特許第4728486号
出願日: 2000年02月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 a)表面を有する少なくとも1つの基体を反応室において反応温度まで加熱するステップと、
b)1〜30%のハロゲン化水素と所定量の炭素窒素源、金属ハロゲン化合物、及びH2とを含む蒸着処理気体を前記反応室に導入して、前記少なくとも1つの基体の前記表面上に浸炭窒化物含有コーティングを蒸着するステップと、を含み、
前記ハロゲン化水素がHClであり、前記炭化窒素源がCH3CNであり、前記金属ハロゲン化合物がTiCl4であり、
前記反応温度が550〜900°Cの範囲である、
化学蒸着処理方法。
IPC (5件):
C23C 16/36 ( 200 6.01)
, B01J 19/00 ( 200 6.01)
, C22C 29/08 ( 200 6.01)
, C23C 8/30 ( 200 6.01)
, B23B 27/14 ( 200 6.01)
FI (5件):
C23C 16/36
, B01J 19/00 L
, C22C 29/08
, C23C 8/30
, B23B 27/14 A
引用特許:
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