特許
J-GLOBAL ID:201303016956788201

光学素子製造装置、光学素子製造方法及び光学素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-082702
公開番号(公開出願番号):特開2013-214360
出願日: 2012年03月30日
公開日(公表日): 2013年10月17日
要約:
【課題】簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整するための光学素子製造装置、光学素子製造方法及び光学素子を提供する。【解決手段】本実施形態の有機EL素子10は、複数の画素領域26B,26G,26Rに形成された発光層16B,16G,16Rを備えている。発光層16Gが発光層16B,16Rよりも発光効率が高い材料で構成されている。発光層16B,16Rは、それぞれ膜厚分布が均一な平坦な膜で形成されており、発光層16Gは、隣接する発光層16R側が厚くなった、膜厚分布が不均一な膜で形成されている形成される。発光層16B,16G,16Rは製造装置によって製造される。製造装置は、発光層16Gを形成する緑色の塗工液を画素領域26Gに塗布した後、遅延して、この画素領域26Gに隣接する画素領域26Rに、赤色の塗工液を塗布する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
塗工液を吐出する吐出口が形成されたノズルと、 光学素子を形成する基板に対向するように前記ノズルを保持する保持部と、 前記ノズルから塗工液を連続的に吐出させながら、基板に対する前記ノズルの相対移動制御を行なう制御部とを備えて、光学素子を製造する製造装置であって、 前記制御部が、 各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、前記特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを特徴とする光学素子製造装置。
IPC (6件):
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26
FI (6件):
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 Z
Fターム (28件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107DD89 ,  3K107FF15 ,  3K107GG06 ,  3K107GG24 ,  3K107GG36 ,  4D075AC06 ,  4D075AC07 ,  4D075CA25 ,  4D075CA35 ,  4D075CB06 ,  4D075CB07 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA06 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EA33 ,  4D075EC11 ,  4D075EC17 ,  4F042AA06 ,  4F042BA01 ,  4F042BA04 ,  4F042BA25

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