高分子電解質膜の製造方法。

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-253151
公開番号（公開出願番号）：特開2013-131490
出願日： 2012年11月19日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：

【課題】耐久性に優れ、高イオン伝導性、低燃料透過性の電解質膜を効率よく工業的に製造できる電解質膜の製造方法を提供する。【解決手段】高分子電解質膜の製造方法は、脱塩重縮合で得られる、加水分解性可溶性付与基かつイオン性基密度が1.0mmol/g以上の高分子電解質の重合溶液から、重縮合時に生成した塩分および塩残渣の一部を直接、遠心分離および/またはフィルター濾過で除去して塗液を得る工程(A)、該塗液を基材上に流延塗工し、溶媒の一部を除去して、基材上に膜状物を得る工程(B)、該基材上の膜状物を酸性水溶液と接触させ、プロトン交換を行う工程(C)、該基材上の膜状物を溶媒と接触させ、重縮合時の分子量1000以上、30000以下の低分子量体の少なくとも一部を除去する工程(D)をこの順に有することを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

脱塩重縮合で得られる、加水分解性可溶性付与基かつイオン性基密度が1.0mmol/g以上の高分子電解質の重合溶液から、重縮合時に生成した塩分および塩残渣の一部を直接、遠心分離および/またはフィルター濾過で除去して塗液を得る工程(A)、該塗液を基材上に流延塗工し溶媒の一部を除去して、基材上に膜状物を得る工程(B)、該基材上の膜状物を酸性水溶液と接触させ、プロトン交換を行う工程(C)、該基材上の膜状物を溶媒と接触させ、重縮合時の分子量1000以上、30000以下の低分子量体の少なくとも一部を除去する工程(D)をこの順に有することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。

IPC (3件)：

H01M 8/02 , H01B 13/00 , C08J 5/22

FI (4件)：

H01M8/02 P , H01B13/00 Z , C08J5/22 101 , C08J5/22

Fターム (21件)：

4F071AA01 , 4F071AA46C , 4F071AA51 , 4F071AA81 , 4F071AF37 , 4F071AF57 , 4F071AG09 , 4F071AG12 , 4F071AG33 , 4F071AG34 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071FB01 , 4F071FC04 , 4F071FD03 , 5H026AA08 , 5H026BB04 , 5H026BB10 , 5H026HH00 , 5H026HH05 , 5H026HH08

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