特許
J-GLOBAL ID：201303017968016901

基体の境界領域を改質する方法

発明者：
マルコ ギンドラット

マルコ ギンドラット について

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フィリッペ ギッティエンヌ

フィリッペ ギッティエンヌ について

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クリストフ ホレンシュタイン

クリストフ ホレンシュタイン について


出願人/特許権者：
ズルツァー・メットコ・アクチェンゲゼルシャフト

ズルツァー・メットコ・アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 特許業務法人浅村特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-108650
公開番号（公開出願番号）：特開2013-245405
出願日： 2013年05月23日
公開日（公表日）： 2013年12月09日
要約：
【課題】より経済的な新しい拡散プロセスの提供。【解決手段】この方法は、表面10によって境界を定められた基体3の境界領域9を改質する。方向付けされたプラズマ・ジェット5を発生させるためのプラズマ源4を有する真空プロセス・チャンバ2を設け、反応性成分を所定の大きさの流れによってプロセス・チャンバ2内に供給し、基体3を所定の反応温度まで加熱する。反応性成分を、方向付けされたプラズマ・ジェット5によって拡散活性化させて、反応性成分を所定の拡散率で基体3の境界領域11に拡散させることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面(10)によって境界を定められた基体(3)の境界領域(9)を改質する方法であって、 方向付けされたプラズマ・ジェット(5)を発生させるためのプラズマ源(4)を有する真空プロセス・チャンバ(2)を設け、 反応性成分を、所定の大きさの流れによって前記プロセス・チャンバ(2)内に供給し、 前記基体(3)を所定の反応温度まで加熱する、前記境界領域(9)を改質する方法において、 前記反応性成分を、前記方向付けされたプラズマ・ジェット(5)によって拡散活性化させ、それにより前記反応性成分を所定の拡散率で前記基体(3)の前記境界領域(11)に拡散させることを特徴とする境界領域を改質する方法。
IPC (2件)：
C23C 8/36 ,  C23C 4/12
FI (2件)：
C23C8/36 ,  C23C4/12
Fターム (10件)：
4K028BA02 ,  4K028BA03 ,  4K028BA04 ,  4K028BA05 ,  4K028BA13 ,  4K028BA21 ,  4K028BA22 ,  4K031DA04 ,  4K031EA01 ,  4K031EA10
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (4件)
  • “浸炭焼入れの実際 第2版”, 19990226, 初2版1刷, pp.114-116
  • “イオン窒化法”, 19760710, 初版, pp.20-25
  • “浸炭焼入れの実際 第2版”, 19990226, 初2版1刷, pp.114-116
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