特許

J-GLOBAL ID：201303019378649251

研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法

発明者： ダブリゥ.スコット レィダー ,  デイビッド エム.シモ ,  トシキ オオワキ
出願人/特許権者： フジミアメリカ インコーポレーテッド
代理人 (2件)： 小林 久夫 ,  安島 清
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-294875
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148117
特許番号：特許第4920819号
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 メモリーハードディスクに使用される磁気ディスク用基盤の研磨用組成物であって、 (a)含有量が組成物の全重量に対して0.1〜40重量%の範囲内の二酸化ケイ素研磨材と、 (b)含有量が組成物の全重量に対して0.01〜10重量%の範囲内の硝酸鉄、硫酸鉄、硫酸アンモニウム鉄、過塩素酸鉄、塩化鉄、クエン酸鉄、クエン酸アンモニウム鉄、シュウ酸鉄、シュウ酸アンモニウム鉄およびエチレンジアミン四酢酸の鉄キレート錯塩からなる群より選択される少なくとも1種類の研磨促進剤である鉄塩と、 (c)含有量が組成物の全重量に対して0.1〜20重量%の範囲内のペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸カリウムおよびペルオキソ二硫酸ナトリウムからなる群より選択される少なくとも1種類の研磨促進助剤であるペルオキソ二硫酸塩と、 (d)水と を含んでなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 201 2.01) ,  C09K 3/14 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-008771   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 特開平4-275387
  
• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-065155   出願人：花王株式会社
• 特開平4-275387