電極製造工程におけるNMP精製システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-154203
公開番号（公開出願番号）：特開2013-018748
出願日： 2011年07月12日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

【課題】NMP水溶液を効率的に脱水する。【解決手段】電極製造工程10から排出されるNMP(N-メチル-2-ピロリドン)を含むNMP水溶液を、水分を選択的に透過させる蒸気透過膜を備えた蒸気透過装置18によって脱水する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電極製造工程から排出されるNMP(N-メチル-2-ピロリドン)を含むNMP水溶液を脱水精製するNMP精製システムであって、前記NMP水溶液を蒸発させて蒸気とし、水と親和性のある蒸気透過膜を備えた蒸気透過装置で水分を除去することによって、NMPを精製することを特徴とするNMP精製システム。

IPC (1件)：

C07D 207/267

FI (1件)：

C07D207/267

Fターム (3件)：

4C069AB12 , 4C069BA01 , 4C069CC24

引用特許：

審査官引用 (7件)

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