特許
J-GLOBAL ID：201303019421677299
液化炭酸ガス製造装置及びその洗浄方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-020797
公開番号（公開出願番号）：特開2013-159500
出願日： 2012年02月02日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：
【課題】装置内を短期間で高い清浄度に達成できる液化炭酸ガス製造装置及びその洗浄方法を提供する。【解決手段】液化炭酸ガス製造装置100は、精製部10、第一導入部11、貯留部12、供給部13、および第二導入部52を備える。精製部10は、二酸化炭素から不純物および汚染物を除去する部分である。第一導入部11は、精製部10に原料又は回収ガスとしての二酸化炭素を導入する部分である。貯留部12は、精製部10を経た二酸化炭素を液体状態で貯留する部分である。供給部13は、貯留部12の液体二酸化炭素をユースポイント200へ圧送するポンプ25を含む部分である。さらに第二導入部52は、貯留部12からポンプ25までのラインに、第一導入部11から導入される二酸化炭素よりも清浄度の高い二酸化炭素を導入して該ラインの洗浄を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
二酸化炭素から不純物および汚染物を除去する精製部と、
前記精製部に原料又は回収ガスとしての二酸化炭素を導入する第一導入部と、
前記精製部を経た二酸化炭素を液体状態で貯留する貯留部と、
前記貯留部の液体二酸化炭素をユースポイントへ圧送するポンプを含む供給部と、
前記貯留部から前記ポンプまでのラインに、前記第一導入部から導入される二酸化炭素よりも清浄度の高い二酸化炭素を導入する第二導入部と、を備えた液化炭酸ガス製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
4D047AA05
, 4D047BA06
, 4D047BA07
, 4D047BA08
, 4D047BB09
, 4D047DA01
, 4D047DA14
, 4G146JA04
, 4G146JC05
, 4G146JC10
, 4G146JC14
, 4G146JC39
, 4G146JD10
出願人引用 (1件)
-
流体供給システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-151051
出願人：オルガノ株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 関西電力株式会社
審査官引用 (1件)
-
流体供給システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-151051
出願人：オルガノ株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 関西電力株式会社
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