特許

J-GLOBAL ID：201303019557474839

導電パターンの形成方法、導電パターン基板及びタッチパネルセンサ

発明者： 山崎 宏 ,  五十嵐 由三
出願人/特許権者： 日立化成株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  酒巻 順一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-085951
公開番号（公開出願番号）：特開2013-156655
出願日： 2013年04月16日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：

【課題】 基板上に段差が小さい導電パターンを形成することができる導電パターンの形成方法、この方法を用いて得られる導電パターン基板及びタッチパネルセンサを提供すること。【解決手段】 本発明の導電パターン形成方法は、基板上に設けられた感光性樹脂層と、感光性樹脂層の基板とは反対側の面に設けられた導電膜とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第一の露光工程と、酸素存在下で、感光層の少なくとも第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、第二の露光工程の後に感光層を現像することにより、導電パターンを形成する現像工程と、を備える。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電膜とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第一の露光工程と、 酸素存在下で、前記感光層の少なくとも第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、 前記第二の露光工程の後に前記感光層を現像することにより、導電パターンを形成する現像工程と、 を備える、導電パターンの形成方法。

IPC (7件)：

G03F 7/38 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/768 ,  H01L 21/320 ,  G06F 3/041

FI (7件)：

G03F7/38 511 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/88 B ,  G06F3/041 330A ,  G06F3/041 350C

Fターム (42件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096FA02 ,  2H097EA01 ,  2H097HB01 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  2H125AC33 ,  2H125AC35 ,  2H125AC36 ,  2H125AD06 ,  2H125AD07 ,  2H125AM13P ,  2H125AM23P ,  2H125AM32P ,  2H125AM61N ,  2H125AM68N ,  2H125AN12N ,  2H125AN47P ,  2H125AP02N ,  2H125AP06N ,  2H125BA34N ,  2H125CA11 ,  2H125CA21 ,  2H125CB05 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H125FA01 ,  5B068AA32 ,  5B068BC13 ,  5B087CC13 ,  5B087CC16 ,  5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033HH00 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033QQ01 ,  5F033RR27 ,  5F033SS00