特許
J-GLOBAL ID：201303020710634571

構造化熱転写ドナー

発明者：
ポッツ,ジョン イー.

ポッツ,ジョン イー. について

, 
ウォルク,マーティン ビー.

ウォルク,マーティン ビー. について


出願人/特許権者：
三星ディスプレイ株式會社

三星ディスプレイ株式會社 について


代理人 (2件)： 松永 宣行 ,  辻 徹二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-094967
公開番号（公開出願番号）：特開2013-237268
出願日： 2013年04月30日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：
【課題】少ない工程と経済的なミクロ構造又はナノ構造転写方法を提供する。【解決手段】レーザ誘起熱転写(LITI)ドナーフィルムは、基材と、前記基材の上に位置する光熱変換層と、前記光熱変換層の上に位置する転写層と、を有する。前記転写層の表面は、前記転写層にエンボス加工された、ないしは別の方法で付与された連続若しくは不連続パターンのミクロ構造化又はナノ構造化形状を含む。前記形状は、前記転写層の一部分の剥離、及び前記形状によって定められるパターンでの前記転写層の一部分の恒久レセプタへの転写を助長するための方法を提供する。【選択図】図6a
請求項（抜粋）：
レーザ誘起熱転写(LITI)ドナーフィルムであって、 基材と、 前記基材の上に位置する光熱変換層と、 前記光熱変換層の上に位置する転写層と、を含み、 前記転写層の表面が、前記転写層の中に延びる複数個のミクロ構造化又はナノ構造化形状を含み、前記ドナーフィルムが、前記形状によって定められるパターンで前記転写層の少なくとも一部分をレセプタに転写するように構成され、配置される、レーザ誘起熱転写(LITI)ドナーフィルム。
IPC (7件)：
B41M 5/382 ,  B41M 5/46 ,  B29C 59/02 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  B29C 33/38 ,  G02B 5/20
FI (6件)：
B41M5/26 Q ,  B29C59/02 B ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  B29C33/38 ,  G02B5/20 101
Fターム (52件)：
2H111AA05 ,  2H111AA26 ,  2H111AA35 ,  2H111BA07 ,  2H111BA61 ,  2H148BC44 ,  2H148BG06 ,  2H148BH28 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD59 ,  3K107DD66 ,  3K107DD67 ,  3K107FF15 ,  3K107GG09 ,  3K107GG14 ,  4F202AA24 ,  4F202AB12 ,  4F202AB18 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ09 ,  4F202AK03 ,  4F202CA19 ,  4F202CB02 ,  4F202CB29 ,  4F202CD23 ,  4F202CN01 ,  4F202CN11 ,  4F202CN30 ,  4F209AA24 ,  4F209AB12 ,  4F209AB18 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ09 ,  4F209AK03 ,  4F209PA02 ,  4F209PB02 ,  4F209PC01 ,  4F209PC03 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PN20 ,  4F209PQ11
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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