特許

J-GLOBAL ID：201303020924651520

ナノインプリント用複製モールド

発明者： 中川 勝 ,  工藤 進平 ,  尹 哲民 ,  永瀬 康一 ,  久保 祥一
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-226695
公開番号（公開出願番号）：特開2013-086294
出願日： 2011年10月14日
公開日（公表日）： 2013年05月13日
要約：

【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。【解決手段】本発明に係る複製モールド1は、ナノインプリント用の複製モールド1であって、基体10と、基体10上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体20とを具備する。複製モールド構造体20は、押し込み弾性率が4000N/mm2以上、74000N/mm2以下であり、線熱膨脹係数が10×10-5K-1未満であり、かつ、365nmにおける透過率が70%以上である。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

ナノインプリント用の複製モールドであって、 基体と、 前記基体上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体と、を具備し、 前記複製モールド構造体は、 押し込み弾性率が4000N/mm2以上、74000N/mm2未満であり、 線熱膨脹係数が10×10-5K-1未満であり、かつ、 365nmにおける透過率が70%以上である複製モールド。

IPC (4件)：

B29C 33/40 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  G02B 1/11

FI (4件)：

B29C33/40 ,  B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  G02B1/10 A

Fターム (34件)：

2K009AA01 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD15 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ01 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ07 ,  4F202AK03 ,  4F202AR12 ,  4F202AR20 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD04 ,  4F202CD26 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ06 ,  4F209AJ07 ,  4F209AK03 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32