特許

J-GLOBAL ID：201303021161990790

研磨装置

発明者： 行廣 圭司
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-102770
公開番号（公開出願番号）：特開2013-230509
出願日： 2012年04月27日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
要約：

【課題】 研磨開始から短時間で、安定して高い研磨速度で被研磨基板を研磨することができ、所定量の研磨を比較的短時間で行うことができる研磨装置を提供する。【解決手段】 赤外線を透過する被研磨基板4の一方主面4aを研磨する研磨装置であって、一方主面4aに当接する研磨面2aを備えた研磨体2と、保持面6aが研磨体2の他方主面2bに当接した状態で被研磨基板4を保持する保持部材6とを有し、保持部材6は、保持面6aに開口16aを有する少なくとも1つの孔部16を備え、孔部16の少なくとも1つに、開口16aを通して被研磨基板4に向けて赤外線を出射して、被研磨基板4を透過した赤外線を研磨面2aに照射するための赤外線照射手段8が配置されていることを特徴とする研磨装置を提供する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

赤外線を透過する被研磨基板の一方主面を研磨するための研磨装置であって、 前記一方主面に当接する研磨面を備えた研磨体と、 前記被研磨基板の他方主面に当接する保持面を備え、該保持面が前記他方主面に当接した状態で前記被研磨基板を保持する保持部材と、 前記一方主面を前記研磨面に当接させた状態で前記保持部材および前記研磨体を相対移動させる移動手段とを有しており、 前記保持部材は、前記保持面に開口を有する少なくとも1つの孔部を備え、 該孔部の少なくとも1つに、前記開口を通して前記被研磨基板に向けて赤外線を出射して、前記被研磨基板を透過した前記赤外線を前記研磨面に照射するための赤外線照射手段が配置されていることを特徴とする研磨装置。

IPC (4件)：

B24B 37/34 ,  B24B 37/015 ,  B24B 37/30 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

B24B37/00 X ,  B24B37/00 J ,  B24B37/04 V ,  H01L21/304 622R ,  H01L21/304 622G ,  H01L21/304 622W

Fターム (20件)：

3C058AA02 ,  3C058AA11 ,  3C058AB04 ,  3C058AC01 ,  3C058BA08 ,  3C058BB02 ,  3C058BC01 ,  5F057AA12 ,  5F057AA14 ,  5F057BA12 ,  5F057BB12 ,  5F057CA11 ,  5F057DA02 ,  5F057DA21 ,  5F057FA12 ,  5F057FA50 ,  5F057GA04 ,  5F057GA27 ,  5F057GB02 ,  5F057GB40