特許
J-GLOBAL ID:201303021192564307
電解質膜の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
片山 修平
, 八田 俊之
, ▲高▼林 芳孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-250827
公開番号(公開出願番号):特開2013-105718
出願日: 2011年11月16日
公開日(公表日): 2013年05月30日
要約:
【課題】 ジルコニア系電解質とセリア系電解質との固溶が抑制された電解質膜の製造方法を提供する。【解決手段】 電解質膜(30)の製造方法は、セリア系電解質グリーン層(31)とジルコニア系電解質グリーン層(33)との間に、焼成工程の際に消失するブロック層(32)が配置された積層体を準備する準備工程と、前記セリア系電解質グリーン層(31)および前記ジルコニア系電解質グリーン層(33)を焼成する焼成工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
セリア系電解質グリーン層とジルコニア系電解質グリーン層との間に、焼成工程の際に消失するブロック層が配置された積層体を準備する準備工程と、
前記セリア系電解質グリーン層および前記ジルコニア系電解質グリーン層を焼成する焼成工程と、を含むことを特徴とする電解質膜の製造方法。
IPC (3件):
H01M 8/02
, H01M 8/12
, H01B 1/08
FI (3件):
H01M8/02 K
, H01M8/12
, H01B1/08
Fターム (9件):
5G301CA02
, 5G301CA28
, 5G301CD01
, 5G301CE01
, 5G301CE02
, 5H026AA06
, 5H026BB01
, 5H026EE12
, 5H026HH08
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