特許

J-GLOBAL ID：201303021409508028

局所露光装置及び局所露光方法

発明者： 太田 義治 ,  森山 茂 ,  松村 雄宣
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-276313
公開番号（公開出願番号）：特開2013-084000
出願日： 2012年12月19日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。【解決手段】基板搬送手段20と、被処理基板Gに対する露光処理空間を形成するチャンバ8と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Lを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源4と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部9と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段30と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部40とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板に対し、露光処理を行う露光処理装置の前段あるいは後段に配置され、露光処理を行う局所露光装置であって、 基板搬送路を形成し、前記被処理基板を前記基板搬送路に沿って平流し搬送する基板搬送手段と、 前記基板搬送路の所定区間を覆うと共に前記被処理基板に対する露光処理空間を形成するチャンバと、 前記チャンバ内かつ前記基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子を有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源と、 前記光源を構成する複数の発光素子のうち、1つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部と、 前記基板搬送路において前記光源よりも上流側に配置され、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段と、 前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部と、 前記光源の下方に設けられ、前記光源から発光された光が通過して前記被処理基板に対し放射される光拡散板と、を備え、 前記制御部は、前記基板検出手段による基板検出信号と基板搬送速度とに基づき基板搬送位置を取得し、前記被処理基板に形成された感光膜の所定領域が前記光源の下方を通過する際、前記ライン状に配列された複数の発光素子のうち、前記所定領域に照射可能な発光素子のみが発光するよう前記発光駆動部を制御し、かつ前記発光駆動部によって、各々の発光による放射照度が可変となされ、前記感光膜の所定領域に対し発光照射する1つまたは複数の発光素子は、各々が予め設定された放射照度に基づき発光制御されることを特徴とする局所露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  G03F 7/26

FI (2件)：

G03F7/20 501 ,  G03F7/26 501

Fターム (8件)：

2H096AA25 ,  2H096LA17 ,  2H097AA20 ,  2H097AB05 ,  2H097BB10 ,  2H097CA12 ,  2H097DB11 ,  2H097LA11