特許

J-GLOBAL ID：201303021935477579

基板処理装置、これを備える塗布現像装置、及び基板処理方法

発明者： 吉田 勇一 ,  吉原 孝介 ,  井関 智弘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-024381
公開番号（公開出願番号）：特開2013-162040
出願日： 2012年02月07日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：

【課題】基板上に形成されるパターンのスペース間から液体を容易に排出する。【解決手段】基板を保持し、該基板の中心部を回転中心として当該基板を回転可能な基板保持部と、前記基板保持部により回転される前記基板の中央から外縁に向かう方向に沿って移動可能で、当該基板の表面にリンス液を供給するリンス液供給部と、前記リンス液供給部とともに前記基板の中央から外縁に向かって移動可能で、前記基板の表面に垂直な方向から傾くとともに前記基板の半径方向から前記基板の回転方向下流側にずれた供給方向から、前記基板保持部により回転される前記基板の表面に不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給部とを備える基板処理装置により上記の課題が達成される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板を保持し、該基板の中心部を回転中心として当該基板を回転可能な基板保持部と、 前記基板保持部により回転される前記基板の中央から外縁に向かって移動可能で、当該基板の表面にリンス液を供給するリンス液供給部と、 前記リンス液供給部とともに前記基板の中央から外縁に向かう方向に沿って移動可能で、前記基板の表面に垂直な方向から傾くとともに前記基板の半径方向から前記基板の回転方向下流側にずれた供給方向から、前記基板保持部により回転される前記基板の表面に不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給部と を備える基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  G03F 7/30

FI (5件)：

H01L21/30 569C ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651L ,  G03F7/30 501

Fターム (22件)：

2H096AA25 ,  2H096GA29 ,  5F146LA04 ,  5F146LA07 ,  5F146LA14 ,  5F157AA71 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC02 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157CB03 ,  5F157CB15 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB22 ,  5F157DB32 ,  5F157DB37 ,  5F157DB47