特許
J-GLOBAL ID:201303022036944988

電解合成装置、電解処理装置、電解合成方法及び電解処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 近藤 利英子 ,  菅野 重慶 ,  岡田 薫 ,  阿部 寛志 ,  鈴木 敏弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-251483
公開番号(公開出願番号):特開2013-108104
出願日: 2011年11月17日
公開日(公表日): 2013年06月06日
要約:
【課題】イオン性の不純物を多く含む原料水を電解セルに供給すると、金属化合物が電極や隔膜に析出し、期待される性能を長期に亘って維持できない課題があった。【解決手段】陽極及び陰極の両電極の間に溶存イオンを含有する原料水を流し、電圧を印加し、溶存イオンのうち陰イオン成分を陽極に、陽イオン成分を陰極に吸着して濃縮し、両電極を短絡させるか逆電流を流す等の方法により、前記濃縮されたイオンを前記各電極から脱着させる脱イオン装置(以下、「CDI装置」という)と電解セルから構成され、前記CDI装置にTotal Dissolved Solids:総溶解固形物(以下、「TDS」という)が100〜1000ppmである原料水を流入して、当該原料水の前処理を行ない、当該原料水のTDSを100ppm以下まで処理し、処理されたCDI処理水を前記電解セルに供給し、電解合成又は電解処理を行なう事を特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
陽極及び陰極の両電極の間に溶存イオンを含有する原料水を流し、電圧を印加し、溶存イオンのうち陰イオン成分を陽極に、陽イオン成分を陰極に吸着して濃縮し、両電極を短絡させるか逆電流を流す等の方法により、前記濃縮されたイオンを前記各電極から脱着させる脱イオン装置(以下、「CDI装置」という)と電解セルから構成され、前記CDI装置にTotal Dissolved Solids:総溶解固形物(以下、「TDS」という)が100〜1000ppmである原料水を流入して、当該原料水の前処理を行ない、当該原料水のTDSを100ppm以下まで処理し、処理されたCDI処理水を前記電解セルに供給し、電解合成を行なう事を特徴とする電解合成装置。
IPC (5件):
C25B 15/08 ,  C25B 9/00 ,  C02F 1/46 ,  C25B 1/26 ,  C25B 1/13
FI (6件):
C25B15/08 302 ,  C25B9/00 A ,  C02F1/46 Z ,  C02F1/46 A ,  C25B1/26 C ,  C25B1/00 F
Fターム (42件):
4D061DA02 ,  4D061DA03 ,  4D061DA04 ,  4D061DB07 ,  4D061DB08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB10 ,  4D061DB18 ,  4D061DC13 ,  4D061DC19 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB05 ,  4D061EB11 ,  4D061EB12 ,  4D061EB13 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB20 ,  4D061EB28 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB33 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061FA06 ,  4D061GC12 ,  4D061GC14 ,  4K021AB07 ,  4K021AB15 ,  4K021AB25 ,  4K021BA02 ,  4K021BA03 ,  4K021BA04 ,  4K021BC01 ,  4K021BC02 ,  4K021BC09 ,  4K021CA08 ,  4K021DC07 ,  4K021DC13
引用特許:
審査官引用 (11件)
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