マスクブランクスのシミュレーション情報の提供方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (17件)：蔵田昌俊 , 高倉成男 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 赤穂隆雄 , 井上正 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-126007
公開番号（公開出願番号）：特開2013-251441
出願日： 2012年06月01日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：

【課題】マスクブランクスを安価に提供することが可能な方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るマスクブランクスのシミュレーション情報の提供方法は、基板上に形成され露光光を反射するマルチレイヤミラーと、マルチレイヤミラー上に形成され露光光を吸収する光吸収層とを備え、マスクブランクスの位相欠陥に基づく欠陥情報を取得する工程S13と、欠陥情報を用いて、少なくとも1以上のリソグラフィシミュレーション条件でリソグラフィシミュレーションを行う工程S14と、リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果を顧客に提供するために、リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果及び少なくとも1以上のリソグラフィシミュレーション条件をマスクブランクスの識別情報とともに記憶する工程S15とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成され露光光を反射するマルチレイヤミラーと、前記マルチレイヤミラー上に形成され前記露光光を吸収する光吸収層とを備えたマスクブランクスのシミュレーション情報の提供方法であって、前記マスクブランクスの位相欠陥に基づく欠陥情報を取得する工程と、前記欠陥情報を用いて、少なくとも1以上のリソグラフィシミュレーション条件でリソグラフィシミュレーションを行う工程と、前記リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果を顧客に提供するために、前記リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果及び前記少なくとも1以上のリソグラフィシミュレーション条件を前記マスクブランクスの識別情報とともに記憶する工程と、を備え、前記リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果は、前記位相欠陥の影響を定量化することで得られた値を含み、前記欠陥情報は、前記位相欠陥の位置情報及び前記位相欠陥の形状情報を含み、前記リソグラフィシミュレーション条件は、前記マスクブランクスを用いて作製したマスクでパターンを転写する際の露光条件と、前記マスクブランクスに形成されるパターンに関する条件とを含み、前記リソグラフィシミュレーションのシミュレーション結果及び前記少なくとも1以上のリソグラフィシミュレーション条件を前記マスクブランクスの識別情報とともに記憶する際に、前記欠陥情報をさらに記憶することを特徴とするマスクブランクスのシミュレーション情報の提供方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/50

FI (3件)：

H01L21/30 531M , G03F1/50 , H01L21/30 531Z

Fターム (7件)：

2H095BC26 , 2H095BD01 , 5F146GA21 , 5F146GA28 , 5F146GD11 , 5F146GD20 , 5F146GD23

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