特許
J-GLOBAL ID:201303023210935523
オーバレイ測定用の目盛校正曲線を生成する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-088605
公開番号(公開出願番号):特開2013-153217
出願日: 2013年04月19日
公開日(公表日): 2013年08月08日
要約:
【解決手段】いくつかのターゲット構造を有する半導体の製造方法および装置に関する。第一の層は、第一方向に伸びる一個以上の線または溝が形成されている。第二の層は、第一構成と直交する第二方向に伸びる一個以上の線または溝が形成されており、この結果、第一方向へのターゲット構成の投影は第二方向から独立であり、第二方向へのターゲット構成の投影は第一方向から独立である。校正曲線を生成するターゲット構造とその方法についても説明する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
第一方向に伸びる第一層内の一個以上の線または溝構成と、
第一構成と直交する第二方向に伸びる第二層内の一個以上の線または溝構成とから成り、
両方の層の構成は交差し、第一方向のオーバレイは第二方向の画像対称に影響を与えず、かつ第二方向のオーバーレイは第一方向の画像対称に影響を与えないオーバレイ決定用の半導体ターゲット。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502M
, G03F7/20 521
Fターム (9件):
5F146EA02
, 5F146EA03
, 5F146EA12
, 5F146EA13
, 5F146EA19
, 5F146EB01
, 5F146EB05
, 5F146EB07
, 5F146FC04
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (11件)
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