特許

J-GLOBAL ID：201303023683412749

サンプル処理アセンブリ及びサンプル処理アセンブリを用いてサンプル材料を処理する方法

発明者： ベディンガム,ウィリアム ,  ダフレスン,ジョエル アール. ,  ハームス,マイケル アール. ,  コカイセル,クリストファー アール. ,  ノース,ダイアン ,  ロボール,バリー ダブリュ. ,  ウッド,ケネス ビー. ,  アイスタ,ジェイムズ イー.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (4件)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-506067
特許番号：特許第4927296号
出願日： 2001年06月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 サンプル処理アセンブリにおいて、 第1側及び第2側を備え、該第1側は該第2側に取り付けられている本体と、 前記第1側と前記第2側との間に形成される複数のプロセスアレイであって、各々が、装填構造体、長さを有する主導管、該主導管から間隔をあけて配置された複数のプロセスチャンバ、および該装填構造体と該複数のプロセスチャンバとの間に配置された変形可能なシールを備え、該複数のプロセスチャンバが、該主導管を通じて該装填構造体に流体連通しており、該変形可能なシールは、該変形可能なシールが沿って配置される導管を塞ぐために機械的圧力を受けて永久的に変形可能である、複数のプロセスアレイと、 を備えるサンプル処理装置と、 前記サンプル処理装置に取り付けられ、該サンプル処理装置の選択的な圧縮を可能にするキャリアであって、 前記サンプル処理装置に対向する第1表面および前記サンプル処理装置から離背する第2表面と、 前記第1表面上にある複数の主導管支持レールであって、前記複数のプロセスアレイの各々の前記主導管が1つの主導管支持レールに対し整列配置されるようになっており、該複数の主導管支持レールが各々の前記主導管に対し整列配置されたときに、前記キャリアを前記サンプル処理装置から間隔をあけて配置する、複数の主導管支持レールと、 前記第1表面および前記第2表面を通して形成された複数の開口部であって、各々が前記複数のプロセスチャンバの1つに対し整列配置されるようになっている複数の開口部と、 を備えるキャリアと、 を具備することを特徴とするサンプル処理アセンブリ。

IPC (4件)：

B01J 19/00 ( 200 6.01) ,  G01N 1/00 ( 200 6.01) ,  G01N 1/18 ( 200 6.01) ,  G01N 37/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B01J 19/00 321 ,  G01N 1/00 101 H ,  G01N 1/18 ,  G01N 37/00 101