特許

J-GLOBAL ID：201303024024256973

5-ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法

発明者： 渡邊 雅彦 ,  矢代 快 ,  西 隆文
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (3件)： 大谷 保 ,  片岡 誠 ,  広瀬 久美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071113
公開番号（公開出願番号）：特開2013-203665
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：

【課題】簡便な方法により、効率的かつ経済的に高純度の5-ヒドロキシメチルフルフラールを製造する方法を提供する。【解決手段】下記(a)〜(c)の工程を含む、5-ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法である。(a)反応溶媒の存在下、糖原料を脱水反応させ、該反応溶媒中に5-ヒドロキシメチルフルフラールを生成させて、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む反応溶媒を得る工程(b)前記(a)で得られた5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む反応溶媒から、5-ヒドロキシメチルフルフラールを疎水性溶媒中に抽出して、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む疎水性溶媒を得る工程(c)前記(b)で得られた、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む疎水性溶媒から、水中に5-ヒドロキシメチルフルフラールを抽出して、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む水溶液を得る工程【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記(a)〜(c)の工程を含む、5-ヒドロキシメチルフルフラールの製造方法。 (a)反応溶媒の存在下、糖原料を脱水反応させ、該反応溶媒中に5-ヒドロキシメチルフルフラールを生成させて、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む反応溶媒を得る工程 (b)前記(a)で得られた5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む反応溶媒から、5-ヒドロキシメチルフルフラールを疎水性溶媒中に抽出して、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む疎水性溶媒を得る工程 (c)前記(b)で得られた、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む疎水性溶媒から、水中に5-ヒドロキシメチルフルフラールを抽出して、5-ヒドロキシメチルフルフラールを含む水溶液を得る工程

IPC (1件)：

C07D 307/46

FI (1件)：

C07D307/46

Fターム (1件)：

4C037HA22