特許
J-GLOBAL ID：201303024633480740
加熱装置、射出成型機及びヒータの制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-045755
公開番号（公開出願番号）：特開2013-180491
出願日： 2012年03月01日
公開日（公表日）： 2013年09月12日
要約：
【課題】目標温度に対する射出材料の温度の追従性を向上すること。【解決手段】本発明の加熱装置は、射出シリンダの外周に設けられ、前記射出シリンダの壁部を介して前記射出シリンダ内の射出材料を加熱するヒータと、前記射出シリンダ内の射出材料の温度を検出する温度センサと、前記ヒータの駆動を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記射出材料の目標温度に、前記目標温度と前記温度センサが検出した温度との差分に応じた調整値を加算した温度を前記ヒータの目標温度とし、前記ヒータの駆動を制御する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
射出シリンダの外周に設けられ、前記射出シリンダの壁部を介して前記射出シリンダ内の射出材料を加熱するヒータと、
前記射出シリンダ内の射出材料の温度を検出する温度センサと、
前記ヒータの駆動を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記射出材料の目標温度に、前記目標温度と前記温度センサが検出した温度との差分に応じた調整値を加算した温度を前記ヒータの目標温度とし、前記ヒータの駆動を制御する加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4F206AK05
, 4F206AP051
, 4F206AR061
, 4F206JA07
, 4F206JQ46
