特許
J-GLOBAL ID:201303024887538519

被加工体の熱加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安彦 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-008329
公開番号(公開出願番号):特開2013-149754
出願日: 2012年01月18日
公開日(公表日): 2013年08月01日
要約:
【課題】ナノオーダーの局所領域において、特に材料の内部についてピンポイントに溶融することによる熱加工を行うことが可能な被加工体の熱加工方法を提供する。【解決手段】順方向バイアス電圧を印加することにより導体2又は半導体1からなる被加工体に拡散電流を発生させ、上記発生された拡散電流により生じるジュール熱に基づいて上記被加工体の一部を溶融させてその形状、濃度分布、又は化学的組成の何れかを変化させることを繰り返すとともに、上記変化後の形状、濃度分布、又は化学的組成に基づいて、上記被加工体中を伝導する電子を放出させることにより発光させるとともに上記拡散電流を減少させて上記ジュール熱を低下させることにより、当該変化後の形状、濃度分布、又は化学的組成を固定させる。【選択図】図8
請求項(抜粋):
順方向バイアス電圧を印加することにより導体又は半導体からなる被加工体に拡散電流を発生させ、上記発生された拡散電流により生じるジュール熱に基づいて上記被加工体の一部を溶融させてその形状、濃度分布、又は化学的組成の何れかを変化させることを繰り返すとともに、上記変化後の形状、濃度分布、又は化学的組成に基づいて、上記被加工体中を伝導する電子を放出させることにより発光させるとともに上記拡散電流を減少させて上記ジュール熱を低下させることにより、当該変化後の形状、濃度分布、又は化学的組成を固定させること を特徴とする被加工体の熱加工方法。
IPC (3件):
H01L 21/324 ,  B82Y 40/00 ,  H01L 21/326
FI (4件):
H01L21/324 J ,  B82Y40/00 ,  H01L21/324 C ,  H01L21/326
Fターム (3件):
3K058AA88 ,  3K058BA00 ,  3K058FA00
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 受光素子の作製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-267811   出願人:独立行政法人科学技術振興機構
審査官引用 (2件)
  • 特願2011-033987
    出願番号:特願2011-033987  
  • 受光素子の作製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-267811   出願人:独立行政法人科学技術振興機構

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