特許
J-GLOBAL ID：201303024933742541

アパタイト型Ge-La酸化物の合成方法

発明者：
小林 清

小林 清 について

, 
北嶋 将太

北嶋 将太 について


出願人/特許権者：
独立行政法人物質・材料研究機構

独立行政法人物質・材料研究機構 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-007659
公開番号（公開出願番号）：特開2013-147365
出願日： 2012年01月18日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
要約：
【課題】本発明は、濾過工程を必要とせず、高濃度のGe-La水溶液を利用でき、低温合成可能なアパタイト型Ge-La酸化物の合成方法を提供することを課題とする。【解決手段】有機酸及びアンモニアを含む水溶液中に、有機酸に含まれているカルボキシル基のモル量に対してGe(+4価)とLa(+3価)からなる金属の総価数モル量が0.8倍となるように溶解し、水溶液のpHが1.2以上1.6以下となるように調整して、Ge及びLaを均一に分散させた混合水溶液を調製する混合水溶液調製工程S1と、前記混合水溶液を130°C以下の温度で加熱してゲルを形成し、前記ゲルをアモルファス前駆体からの結晶成長開始温度以下の温度で加熱してアモルファス前駆体を形成した後、前記アモルファス前駆体を前記結晶成長開始温度以上1100°C以下の温度で加熱する混合水溶液加熱工程S2と、を有するアパタイト型Ge-La酸化物の合成方法を用いることによって課題を解決できる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
有機酸及びアンモニアを含む水溶液中に、Ge又はGe化合物及びLa又はLa化合物を、Ge(+4価)とLa(+3価)の総価数モル量が有機酸に含まれるカルボキシル基のモル量に対して0.8倍となるように溶解し、更に水溶液のpHが1.2以上1.6以下となるように調整して、Ge及びLaを均一に分散させた混合水溶液を調製する混合水溶液調製工程と、 前記混合水溶液を130°C以下の温度で加熱してゲルを形成してから、前記ゲルをアモルファス前駆体からの結晶成長開始温度以下の温度で加熱してアモルファス前駆体を形成した後、前記アモルファス前駆体を前記結晶成長開始温度以上1100°C以下の温度で加熱する混合水溶液加熱工程と、を有することを特徴とするアパタイト型Ge-La酸化物の合成方法。
IPC (1件)：
C01G 17/00
FI (1件)：
C01G17/00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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