特許
J-GLOBAL ID:201303026240187040
表示装置用配線構造
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
植木 久一
, 植木 久彦
, 菅河 忠志
, 伊藤 浩彰
, 竹岡 明美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-166391
公開番号(公開出願番号):特開2013-084907
出願日: 2012年07月26日
公開日(公表日): 2013年05月09日
要約:
【課題】450〜600°C程度の高温下に曝されてもヒロックが発生せず高温耐熱性に優れており、配線構造全体の電気抵抗(配線抵抗)も低く抑えられており、更にフッ酸耐性にも優れた表示装置用配線構造を提供する。【解決手段】本発明の表示装置用配線構造は、基板側から順に、Ta、Nb、Re、Zr、W、Mo、V、Hf、Ti、CrおよびPtよりなる群(X群)から選択される少なくとも一種の元素と、希土類元素の少なくとも一種とを含むAl合金の第1層と;Ti、Mo、Al、Ta、Nb、Re、Zr、W、V、Hf、およびCrよりなる群(Y群)から選択される少なくとも一種の元素の窒化物、またはAl合金の窒化物の第2層と、が積層された表層構造を有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表示装置に用いられる配線構造であって、
前記配線構造は、基板側から順に、
Ta、Nb、Re、Zr、W、Mo、V、Hf、Ti、CrおよびPtよりなる群(X群)から選択される少なくとも一種の元素と、希土類元素の少なくとも一種とを含むAl合金の第1層と;
Ti、Mo、Al、Ta、Nb、Re、Zr、W、V、Hf、およびCrよりなる群(Y群)から選択される少なくとも一種の元素の窒化物、またはAl合金の窒化物の第2層と、が積層された構造を含み、
前記第1層を構成するAl合金と、前記第2層を構成するAl合金とは、同一または異なっていても良いことを特徴とする表示装置用配線構造。
IPC (7件):
H01L 21/320
, H01L 21/768
, H01L 23/532
, C22C 27/04
, C22C 21/00
, H01L 21/28
, C23C 14/06
FI (6件):
H01L21/88 N
, C22C27/04 102
, C22C21/00 A
, H01L21/28 301R
, H01L21/88 R
, C23C14/06 N
Fターム (48件):
4K029BA23
, 4K029BA58
, 4K029BA60
, 4K029BB02
, 4K029BC03
, 4K029BD01
, 4K029CA06
, 4M104AA01
, 4M104AA08
, 4M104AA09
, 4M104BB03
, 4M104BB39
, 4M104CC01
, 4M104CC05
, 4M104DD37
, 4M104DD79
, 4M104FF18
, 4M104GG09
, 4M104HH03
, 4M104HH15
, 5F033GG04
, 5F033HH09
, 5F033HH10
, 5F033HH32
, 5F033HH33
, 5F033HH34
, 5F033JJ01
, 5F033JJ09
, 5F033JJ10
, 5F033JJ32
, 5F033JJ33
, 5F033JJ34
, 5F033KK04
, 5F033KK05
, 5F033MM04
, 5F033MM08
, 5F033MM13
, 5F033PP15
, 5F033PP16
, 5F033QQ73
, 5F033QQ83
, 5F033VV06
, 5F033VV15
, 5F033WW00
, 5F033WW02
, 5F033WW03
, 5F033XX10
, 5F033XX16
引用特許:
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