特許

J-GLOBAL ID：201303026321692629

レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法

発明者： 和田 健二
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 野口 恭弘 ,  深海 明子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-103089
公開番号（公開出願番号）：特開2013-230585
出願日： 2012年04月27日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
要約：

【課題】レリーフ層の強度、耐刷性及び有機溶剤耐性に優れたフレキソ印刷版が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(成分A)式(I)で表される部分構造を有する樹脂を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。R1〜R5はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、L1はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、R1〜R5及びL1は2以上が結合して環を形成していてもよく、R6は水素原子又は一価の有機基を表し、pは0〜6の整数を表し、qは1又は2を表し、rは0〜6の整数を表し、p+q+rは3〜7の整数であり、波線部分は他の構造との結合位置を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(成分A)式(I)で表される部分構造を有する樹脂を含有することを特徴とする レーザー彫刻用樹脂組成物。

IPC (2件)：

B41N 1/12 ,  B41C 1/05

FI (2件)：

B41N1/12 ,  B41C1/05

Fターム (14件)：

2H084AA05 ,  2H084AA32 ,  2H084AE05 ,  2H084BB04 ,  2H084CC01 ,  2H114AA01 ,  2H114AA27 ,  2H114BA10 ,  2H114DA53 ,  2H114EA02 ,  2H114EA03 ,  2H114EA08 ,  2H114FA02 ,  2H114FA13