特許
J-GLOBAL ID：201303026346568620
焼結体、スパッタリングターゲット及び成形型並びに焼結体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-286146
公開番号（公開出願番号）：特開2013-091322
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
要約：
【課題】 大型で均質な焼結体を安価に効率良く製造することを可能とし、放電特性や得られる薄膜の特性が良好な大型のスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 加圧圧縮時には充填した原料粉末に対して実質的に1軸方向からのみ加圧し、加圧終了後の減圧時には成形体に対して等方的に圧力を開放することが可能な構造を有する成形型を用いることにより、成形時のスプリングバックを効率よく解消して、高い成形圧力での冷間静水圧プレスを可能とする。これにより、バインダー等の有機物を含まない原料粉末を用いて、直接、形状精度の良い成形体を作製することができ、大型で均質、かつ、炭素含有量の少ない焼結体を効率よく高い歩留まりで製造することができる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
成形型内に原料粉末を充填し圧縮して成形体を製造するための成形型であって、加圧圧縮時には充填した原料粉末に対して実質的に1軸方向からのみ加圧し、加圧終了後の減圧時には成形体に対して実質的に等方的に圧力を開放可能な構造を有していることを特徴とする圧縮成形用成形型。
IPC (5件)：
B28B 3/00
, C04B 35/64
, B28B 3/02
, B22F 3/02
, B22F 3/035
B28B3/00 102
, C04B35/64 L
, B28B3/02 M
, B22F3/02 G
, B22F3/035 D
4G054AA05
, 4G054AB01
, 4G054AC00
, 4G054BA02
, 4G054BA45
, 4G054BA55
, 4G054BA72
, 4G054BE02
, 4G054BE05
, 4K018CA15
, 4K018CA19
, 4K018CA25
, 4K018CA27
, 4K018KA29
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC34
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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