特許

J-GLOBAL ID：201303026393634127

複数領域のヒータを大気から隔離する方法

発明者： エイチ オー,ヘンリー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-172047
公開番号（公開出願番号）：特開2012-256916
出願日： 2012年08月02日
公開日（公表日）： 2012年12月27日
要約：

【課題】ヒータアセンブリの内容積が大気に曝され、構成部品の機械的強度が使用中に劣化することを防止する方法を提供する。【解決手段】ウェハを処理する方法であって、加熱ディスク116から基部まで広がり、加熱ディスクに接続された少なくとも一つの加熱エレメント112を囲んでいる内容積を有するヒータを含む反応チャンバ108内でウェハを処理するステップ、内容積は反応チャンバから内容積を隔離する密封を有し;ヒータで反応チャンバを加熱するステップ;ヒータ内容積の内部に不活性ガスをパージするステップ;内容積から反応チャンバの外側まで不活性ガスを排出するためヒータ内容積に接続されたガス抜きポートで不活性ガスをガス抜きするステップ;を含む、方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウェハを処理する方法であって、 加熱ディスクから基部まで広がり、加熱ディスクに接続された少なくとも一つの加熱エレメントを囲んでいる内容積を有するヒータを含む反応チャンバ内でウェハを処理するステップ、内容積は反応チャンバから内容積を隔離する密封を有し; ヒータで反応チャンバを加熱するステップ; ヒータ内容積の内部に不活性ガスをパージするステップ; 内容積から反応チャンバの外側まで不活性ガスを排出するためヒータ内容積に接続されたガス抜きポートで不活性ガスをガス抜きするステップ; を含む、方法。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/44

FI (3件)：

H01L21/31 B ,  H01L21/205 ,  C23C16/44 J

Fターム (23件)：

4K030BA29 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030FA03 ,  4K030KA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA06 ,  5F045AB03 ,  5F045AB33 ,  5F045AD11 ,  5F045AE01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EE14 ,  5F045EF05 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK08 ,  5F045EK09 ,  5F045EK24 ,  5F045EM02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-179845   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (1件)

• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-179845   出願人：東京エレクトロン株式会社