特許
J-GLOBAL ID：201303026511041632
ジフェニルスルホン化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (9件)：
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 小原 健志
, 中川 博司
, 舘 泰光
, 斎藤 健治
, 藤井 淳
, 関 仁士
, 中野 睦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-273453
公開番号（公開出願番号）：特開2003-081938
特許番号：特許第4807690号
出願日： 2001年09月10日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】4,4′-ジヒドロキシジフェニルスルホンと一般式(2);
R-X (2)
(式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、または芳香環上に置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。)
で表されるハロゲン化炭化水素化合物を反応させて一般式(1);
(式中、Rは前記と同様である。)
で表されるジフェニルスルホン化合物を製造する方法であって、水および水非混和性有機溶媒中、水酸化カリウムおよび炭酸カリウムの存在下に反応させることを特徴とする一般式(1)のジフェニルスルホン化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07C 315/04 ( 200 6.01)
, C07C 317/22 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 315/04
, C07C 317/22
, C07B 61/00 300
