特許
J-GLOBAL ID：201303027100651240

荷電粒子ビーム描画方法、描画粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置

発明者：
仲田 純人

仲田 純人 について

, 
飯塚 修

飯塚 修 について

, 
山村 光

山村 光 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-002290
公開番号（公開出願番号）：特開2013-143441
出願日： 2012年01月10日
公開日（公表日）： 2013年07月22日
要約：
【目的】描画中のドリフト診断の時間間隔の設定を最適化し、高い描画精度と高いスループットを両立させる荷電粒子ビーム描画方法を提供する。【構成】荷電粒子ビームのドリフト量の診断を実行する時間間隔を定義する複数の時間間隔パターンを記憶する工程と、荷電粒子ビームを試料上に照射し、試料上に所定の描画パターンを描画する工程と、イベントの発生とイベントの種別を含む第1のイベント情報を受領する工程と、描画中の領域を特定する領域情報を取得する工程と、第1のイベント情報のイベントの種別と領域情報とに基づき、特定の時間間隔パターンを選択する工程と、第1のイベント情報を受領後、第2のイベント情報を受領するまでの期間、上記特定の時間間隔パターンに基づき荷電粒子ビームのドリフト量の診断を行う工程と、診断に基づき、ドリフト補正を行いながら試料上に所定のパターンを描画する工程と、を備える荷電粒子ビーム描画方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームのドリフト量の診断を実行する時間間隔を定義する複数の時間間隔パターンを記憶する工程と、 前記荷電粒子ビームを試料上に照射し、前記試料上に所定の描画パターンを描画する工程と、 イベントの発生とイベントの種別を含む第1のイベント情報を受領する工程と、 前記荷電粒子ビームが描画中の領域を特定する領域情報を取得する工程と、 前記第1のイベント情報の前記イベントの種別と前記領域情報とに基づき、前記複数の時間間隔パターンの中から特定の時間間隔パターンを選択する工程と、 前記第1のイベント情報を受領後、イベントの発生とイベントの種別を含む第2のイベント情報を受領するまでの期間、前記特定の時間間隔パターンに基づき前記荷電粒子ビームのドリフト量の診断を行う工程と、 前記診断に基づき、前記荷電粒子ビームのドリフト補正を行いながら前記試料上に所定の描画パターンを描画する工程と、 を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/305
FI (3件)：
H01L21/30 541D ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/305 B
Fターム (8件)：
2H097AA03 ,  2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB07 ,  5F056BA08 ,  5F056CC04 ,  5F056CD01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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