特許

J-GLOBAL ID：201303027461317182

ナノ粒子と複合化したシリカナノ中空粒子とその製造方法

発明者： 藤 正督 ,  河尻 史和 ,  白井 孝
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-225393
公開番号（公開出願番号）：特開2013-082599
出願日： 2011年10月13日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：

【課題】シリカ殻の任意の部位に選択的に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子を担持させたシリカ殻からなる複合ナノ中空粒子を提供すること、またナノ粒子の分散性を維持しつつ、中空粒子が持つ特性を保持したまま安定して供給する方法を提供することである。【解決手段】平均細孔径の異なるシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造し、シリカ殻外表面、シリカ殻内、あるいはシリカ殻内表面の少なくとも一部位に選択的に金属または金属酸化物を担持させる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

内表面と外表面を有するシリカ殻内に、ガス吸着等温線から検出される細孔径分布を持つシリカ殻からなり、前記シリカ殻外表面(A)、シリカ殻内(B)、あるいはシリカ殻内表面(C)、の少なくとも一部位に選択的に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子を担持したシリカ殻からなる複合ナノ中空粒子であって、 前記シリカ殻外表面(A)に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子が担持したナノ中空粒子の、Vt-plotにより算出される平均細孔径が1〜5nm、シリカ殻内(B)に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子が担持したナノ中空粒子の平均細孔径が0.5〜3nm、シリカ殻内表面(C)に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子が担持したナノ中空粒子の平均細孔径が1nm以下である複合ナノ中空粒子。

IPC (1件)：

C01B 33/18

FI (2件)：

C01B33/18 E ,  C01B33/18 Z

Fターム (27件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB06 ,  4G072BB07 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG02 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ08 ,  4G072JJ09 ,  4G072JJ23 ,  4G072JJ26 ,  4G072JJ28 ,  4G072JJ45 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM11 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072MM40 ,  4G072QQ20 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08