特許
J-GLOBAL ID:201303028147702574
基材へのグラフェンの広範囲析出およびそれを含む製品
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大森 純一
, 折居 章
, 中村 哲平
, 金子 彩子
, 吉田 望
, 金山 慎太郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-544470
公開番号(公開出願番号):特表2013-513544
出願日: 2010年11月24日
公開日(公表日): 2013年04月22日
要約:
本発明の特定の実施形態例は、透明な導電性コーティング(TCC)としてグラフェンを使用することに関する。被覆しようとする表面を有する基材を供給する。自己組織化単分子膜(SAM)テンプレートを、被覆しようとする表面に配置する。前駆体分子を含む前駆体を供給する。ここで、前駆体分子は、多環式芳香族炭化水素(PAH)及びディスコチック分子である。前駆体を溶解して溶液とする。この溶液を、上にSAMテンプレートを配置した基材に適用する。前駆体分子をSAMテンプレートに光化学的に付着させる。基材を少なくとも450°Cまで加熱すると、グラフェン含有膜が形成される。有利なことに、グラフェン含有膜は基材に直接、例えばリフトオフ法を必要とせずに、形成することができる。
請求項(抜粋):
被覆しようとする表面を有する基材を供給する工程と、
自己組織化単分子膜(SAM)テンプレートを、被覆しようとする前記表面に配置する工程と、
多環式芳香族炭化水素(PAH)及びディスコチック分子である前駆体分子を含む前駆体を供給する工程と、
前記前駆体を溶解して溶液とする工程と、
前記溶液を、上に前記SAMテンプレートを配置した前記基材に適用する工程と、
前記前駆体分子を前記SAMテンプレートに光化学的に付着させる工程と、
前記基材を少なくとも450°Cまで加熱することでグラフェン含有膜を形成する工程と
を含む被覆物品の製造方法。
IPC (4件):
C01B 31/02
, H01L 21/205
, H01B 13/00
, H01L 31/04
FI (4件):
C01B31/02 101Z
, H01L21/205
, H01B13/00 503B
, H01L31/04 M
Fターム (53件):
4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AD17
, 4G146AD22
, 4G146AD30
, 4G146BA04
, 4G146BA12
, 4G146BA20
, 4G146BA48
, 4G146BA49
, 4G146BB10
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC03
, 4G146BC23
, 4G146BC26
, 4G146BC27
, 4G146BC32A
, 4G146BC33A
, 4G146BC33B
, 4G146BC34A
, 4G146BC35A
, 4G146BC36A
, 4G146BC37B
, 4G146BC38B
, 4G146BC47
, 5F045AA03
, 5F045AB07
, 5F045AC07
, 5F045AD10
, 5F045AD11
, 5F045AD12
, 5F045AD13
, 5F045AD14
, 5F045AD15
, 5F045AD16
, 5F045AE17
, 5F151AA09
, 5F151CB27
, 5F151DA03
, 5F151DA07
, 5F151FA02
, 5F151FA03
, 5F151FA08
, 5F151FA13
, 5F151FA15
, 5F151FA18
, 5F151FA19
, 5F151GA03
, 5G323BA05
, 5G323BB06
, 5G323BC01
引用特許: