特許
J-GLOBAL ID:201303028317268840
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-117173
公開番号(公開出願番号):特開2013-007033
出願日: 2012年05月23日
公開日(公表日): 2013年01月10日
要約:
【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1は、式(a-g1)で表される基;環W1は、置換基を有していてもよいスルトン環;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基;X10は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される化合物。
IPC (3件):
C08F 28/02
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (3件):
C08F28/02
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (45件):
2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ69Y
, 2H125AJ92Y
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AP01P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03R
, 4J100BA11S
, 4J100BA15P
, 4J100BA15R
, 4J100BA15S
, 4J100BA20Q
, 4J100BA55P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53S
, 4J100BC84P
, 4J100CA03
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
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