特許

J-GLOBAL ID：201303029107201650

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 川嶋 智仁
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (19件)： 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  赤穂 隆雄 ,  井上 正 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-066202
公開番号（公開出願番号）：特開2013-197534
出願日： 2012年03月22日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
要約：

【課題】エッチングによる生成物を除去することのできるプラズマ処理及びプラズマ処理方法を提供することである。【解決手段】一実施形態にかかるプラズマ処理装置は、内部に処理対象物を収容する反応容器と、前記反応容器内の前記処理対象物にプラズマ処理を行うプラズマ処理部と、前記反応容器に着脱されるライナと、前記反応容器の外側に設けられ前記ライナを収容可能なライナ室と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部に処理対象物を収容する反応容器と、 前記反応容器内の前記処理対象物にプラズマ処理を行うプラズマ処理部と、 前記反応容器に着脱されるライナと、 前記反応容器の外側に設けられ前記ライナを収容可能なライナ室と、 を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/302 101M ,  H01L21/302 101H ,  H05H1/46 M

Fターム (8件)：

5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004BC06 ,  5F004DB08 ,  5F004EA28 ,  5F004EB08