特許

J-GLOBAL ID：201303029119701402

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  吉田 勲 ,  吉田 昌史
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-253162
公開番号（公開出願番号）：特開2013-129824
出願日： 2012年11月19日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：

【課題】ラインエッジラフネス(LER)に優れたレジストパターンを製造できるレジスト組成物の製造に用いられる化合物を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物。[式中、A1は、酸素原子、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す;L1は及びL2は、単結合又は炭素数1〜12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;環W1は、炭素数3〜36の炭化水素環を表す;R1、R2及びR3は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表し、R2及びR3は互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい;R4は、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す;R5は、水素原子又はメチル基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される化合物。

IPC (3件)：

C08F 12/22 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08F12/22 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (34件)：

2H125AF17P ,  2H125AF30P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ07X ,  2H125AJ07Y ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ69Y ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA10P ,  4J100BA15P ,  4J100BA22P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38