特許
J-GLOBAL ID：201303029507180341
移動ステージ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-092360
公開番号（公開出願番号）：特開2013-222769
出願日： 2012年04月13日
公開日（公表日）： 2013年10月28日
要約：
【課題】雰囲気調整された処理室内で使用されるガス浮上を利用した移動ステージの移動による微粒粉塵の巻き上げを防止する。【解決手段】調整された雰囲気下で被処理体(半導体基板100)の処理を行う処理室2内に設置される移動ステージ3において、被処理体が配置されるステージ本体30と、ステージ本体30をガス圧によって非接触で支持するガス支持部を有し、ガス支持部は、少なくとも処理室2の横面または/および縦面に面して前記面にガスが吹き出される一または複数のガスパッド35を有し、ガスパッド35の周囲に微粒粉塵吸引口42が設けられ、微粒粉塵吸引口42に連通して前記処理室外に伸長する吸引ガス排気ライン(吸引ガス排気管43)が設けられる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
調調整された雰囲気下で被処理体の処理を行う処理室内に設置される移動ステージにおいて、
前記被処理体が配置されるステージ本体と、
前記ステージ本体をガス圧によって非接触で支持するガス支持部とを有し、
前記ガス支持部は、少なくとも前記処理室の横面または/および縦面に面して前記面にガスが吹き出される一または複数のガスパッドを有し、
前記ガスパッドの周囲に微粒粉塵吸引口が設けられ、前記微粒粉塵吸引口に連通して前記処理室外に伸長する吸引ガス排気ラインが設けられていることを特徴とする移動ステージ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
5F131AA02
, 5F131AA12
, 5F131BA24
, 5F131CA15
, 5F131EA04
, 5F131EA15
, 5F131EA22
, 5F131EB42
, 5F131JA23
