レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-075874
公開番号（公開出願番号）：特開2013-235251
出願日： 2013年04月01日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)式(II)で表される酸発生剤及び(D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、RD1及びRD2はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子;m‘及びn’はそれぞれ0〜4の整数;Rb1及びRb2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は2価の飽和炭化水素基;環Wb1は複素環;Rb3は水素原子又は炭化水素基;Rb4は炭化水素基;sは0〜6の整数;Z1+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸不安定基を有する樹脂、 (B)式(II)で表される酸発生剤及び (D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , C08F 20/10 , C07C 309/17

FI (6件)：

G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , C08F20/10 , C07C309/17

Fターム (64件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF26P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4C054AA02 , 4C054CC02 , 4C054DD01 , 4C054EE01 , 4C054FF26 , 4C064AA01 , 4C064AA27 , 4C064CC01 , 4C064DD01 , 4C064EE03 , 4C064FF03 , 4C064GG01 , 4C064HH05 , 4C064HH09 , 4H006AA03 , 4H006AB48 , 4H006BJ50 , 4H006BM30 , 4H006BM74 , 4H006BS30 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA03T , 4J100BA11R , 4J100BC04S , 4J100BC09P , 4J100BC09T , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC84S , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100JA38

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