特許
J-GLOBAL ID：201303029812642746

加工場所へのプロセスガスの供給源を含む粒子ビームシステム

発明者：
ウルリケ ジール

ウルリケ ジール について

, 
マチアス クナピッヒ

マチアス クナピッヒ について


出願人/特許権者：
カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハー

カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハー について


代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-010160
公開番号（公開出願番号）：特開2013-167018
出願日： 2013年01月23日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】加工場所への1つ又は複数の異なるプロセスガスの供給を可能にし、且つ改良された構成を有し、且つ/又は供給プロセスガスのより精密な制御を可能にするようなシステムを提供する。【解決手段】プロセスガスを粒子ビームシステム1の加工場所7に供給するシステムは、ガスリザーバ63と、ガス導管65と、加工場所の近くに位置付けたパイプ69と、ガス導管とパイプとの間に設けた弁67と、弁67を開閉して、プロセスガスを加工場所に供給しない第1動作モードからプロセスガスを加工場所に供給する第2動作モードへシステムを切り替えるよう構成したコントローラとを備える。コントローラは、弁67を周期的に交互に開閉することができ、各周期は、弁が開く第1持続時間と弁が閉じる第2持続時間とを含み、第1持続時間と第2持続時間との比を変えることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プロセスガスを粒子ビームシステムの加工場所に供給するシステムであって、 ガスリザーバと、 該ガスリザーバに接続した第1端部を有するガス導管と、 前記加工場所の近くに位置付けた第1端部を有するパイプと、 前記ガス導管の第2端部と前記パイプの第2端部との間に設けた弁であり、前記ガスリザーバから前記ガス導管及び前記パイプを介して前記加工場所へのガス流を選択的に許可及び阻止するよう構成した弁と、 該弁を開閉し、プロセスガスを前記加工場所に供給しない第1動作モードからプロセスガスを前記加工場所に供給する第2動作モードへ前記システムを切り替え、且つ前記第2動作モードの開始時に前記弁を複数周期で交互に開閉するよう構成したコントローラであり、各周期は、前記弁が開く第1持続時間と、該第1持続時間の直後の前記弁が閉じる第2持続時間とを含み、少なくとも1対の連続周期で、第1周期における前記第1持続時間と前記第2持続時間との比が、対のうちの前記第1周期の後の第2周期における前記第1持続時間と前記第2持続時間との比よりも小さいという関係を満たすコントローラと を備えたシステム。
IPC (3件)：
C23C 16/455 ,  H01J 37/317 ,  H01J 37/305
FI (3件)：
C23C16/455 ,  H01J37/317 D ,  H01J37/305 A
Fターム (18件)：
4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA01 ,  4K030BA20 ,  4K030BA27 ,  4K030BA44 ,  4K030EA06 ,  4K030FA12 ,  4K030JA03 ,  4K030JA06 ,  4K030JA11 ,  4K030KA41 ,  5C034BB09 ,  5C034BB10 ,  5C034DD09
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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