特許

J-GLOBAL ID：201303030927782450

プラズマ処理装置

発明者： 岩田 学 ,  吉村 章弘 ,  辻本 宏
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-009114
公開番号（公開出願番号）：特開2013-149790
出願日： 2012年01月19日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
要約：

【課題】上下方向で移動可能に構成された上部電極回りの高周波伝送路上でパーティクルの発生を誘発せずに不所望な共振現象の発生を効果的に防止する。【解決手段】このカソードカップリング方式の容量結合型プラズマ処理装置において、チャンバ10の上部には、上下方向に可動に構成された上部電極44がサセプタ(下部電極)14と平行に向かいあって同軸に設けられる。この上部電極44は、サセプタ14と対向する電極本体46と、チャンバ10の天井壁(上蓋)10bと対向する導電性の背板48と、電極本体46と背板48との間に空隙50が形成されるように電極本体46の周辺部と背板48の周辺部とを結合するリング状の誘電体52とを有している。上部電極44の背板48は、物理的にも電気的にベローズ72を介して接地電位部材であるチャンバ10に接続されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理基板を出し入れ可能に収容する真空排気可能な筒状の処理容器内に相対向して設けられた上部電極および下部電極の間の処理空間で処理ガスの高周波放電によるプラズマを生成し、前記プラズマの下で前記下部電極上に保持される前記基板に所望の処理を施すプラズマ処理装置であって、 前記上部電極を前記処理容器の側壁から離して上下方向に移動可能に支持する上部電極支持機構と、 前記下部電極側から見て前記上部電極の裏側で前記上部電極と前記処理容器の天井壁とを接続する伸縮自在な導電性の隔壁と を具備し、 前記上部電極が、前記下部電極と対向する電極本体と、前記処理容器の天井壁と対向する導電性の背板と、前記電極本体と前記背板の間に空隙が形成されるように前記電極本体の周辺部と前記背板の周辺部とを結合するリング状の誘電体とを有する、 プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L21/302 101B ,  H01L21/205 ,  C23C16/509 ,  H05H1/46 M ,  H05H1/46 R

Fターム (22件)：

4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030JA18 ,  4K030KA17 ,  4K030KA20 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  5F004AA16 ,  5F004BA07 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004CA06 ,  5F045AA08 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05 ,  5F045EH07 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19