特許
J-GLOBAL ID:201303031709685687
色シフト性炭素含有干渉顔料
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
杉村 憲司
, 冨田 和幸
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-531927
特許番号:特許第4925154号
出願日: 2000年07月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1誘電層と、
第1誘電層上の第1炭素層と、
第1炭素層上の第2誘電層とからなる色シフト多層干渉膜であり、
前記第1炭素層は、屈折率が2.11より大きく且つ吸収率が0.9より大きく、前記第1誘電層と前記第2誘電層はSiOx材料を含み、ここでXは、1と2の間である、ことを特徴とする色シフト多層干渉膜。
IPC (7件):
C09C 1/44 ( 200 6.01)
, C09C 1/28 ( 200 6.01)
, C09C 3/06 ( 200 6.01)
, B32B 7/02 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
, C09D 17/00 ( 200 6.01)
, G02B 5/28 ( 200 6.01)
FI (7件):
C09C 1/44
, C09C 1/28
, C09C 3/06
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00 A
, C09D 17/00
, G02B 5/28
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特開昭61-198201
-
特公昭59-041163
審査官引用 (2件)
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特開昭61-198201
-
特公昭59-041163
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