特許

J-GLOBAL ID：201303033219482004

真空脱ガス装置の浸漬管または下部槽

発明者： 安井 公宏 ,  寺田 庄吾 ,  小出 邦博
出願人/特許権者： 東京窯業株式会社
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-106369
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234346
出願日： 2012年05月08日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】芯金の赤熱状態化を抑制し、芯金の長寿命化、ひいては浸漬管の長寿命化を図るのに有利な真空脱ガス装置の浸漬管または下部槽を提供することを課題とする。【解決手段】真空脱ガス装置に用いられる浸漬管または下部槽であって、芯金2と、縦向きの溶湯通路30を形成する芯金2の内周側、芯金2の外周側、および芯金2の下側に配置された筒状の耐火物層3とを備えている。芯金2の表面のうちの少なくとも一部には塗布モルタル層8が積層されている。塗布モルタル層8は10ミリメートル以内の厚さをもち、芯金2と耐火物層3との間に挟持されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空脱ガス装置に用いられる浸漬管または下部槽であって、芯金と、縦向きの溶湯通路を形成する前記芯金の内周側、前記芯金の外周側、および前記芯金の下側に配置された耐火物層とを備えており、 前記芯金の表面のうちの少なくとも一部表面には塗布モルタル層が積層され、前記塗布モルタル層は前記芯金と前記耐火物層との間に挟持されていることを特徴とする真空脱ガス装置の浸漬管または下部槽。

IPC (2件)：

C21C 7/10 ,  C21C 7/00

FI (2件)：

C21C7/10 C ,  C21C7/00 Q

Fターム (3件)：

4K013CE01 ,  4K013CE09 ,  4K013CF19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 浸漬管
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-009822   出願人：東京窯業株式会社
• 真空脱ガス装置用浸漬管
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-212609   出願人：東京窯業株式会社
• 外断熱構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-113339   出願人：株式会社竹中工務店
• 断熱性モルタル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-400573   出願人：東亞合成株式会社