特許

J-GLOBAL ID：201303033299416902

光重合性組成物並びにそれを用いたパターン形成方法

発明者： 小川 毅
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 楊井 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-238211
公開番号（公開出願番号）：特開2013-138179
出願日： 2012年10月29日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：

【課題】ナノインプリント用シロキサン樹脂を提供する。【解決手段】光重合開始剤と、(基Aは重合性基、mは1〜10の整数、nは1〜10の整数、pは0〜5の整数である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光重合開始剤とシロキサン化合物とを含む、光ナノインプリント用途の光重合性組成物であって、 シロキサン化合物が、 一般式(1)

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  C08F 220/26 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  C08F220/26 ,  B29C59/02 Z

Fターム (29件)：

4F209AA33 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ06 ,  4F209AK03 ,  4F209AM32 ,  4F209AR17 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PJ01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4J100AL66P ,  4J100AL67Q ,  4J100BA81P ,  4J100BA81Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA23 ,  4J100DA22 ,  4J100DA25 ,  4J100DA37 ,  4J100DA49 ,  4J100JA00 ,  4J100JA37 ,  5F146AA33