特許

J-GLOBAL ID：201303033538776444

ガラス基板およびその製造方法

発明者： 遠藤 毅
出願人/特許権者： コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社
代理人 (7件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-122732
公開番号（公開出願番号）：特開2013-168193
出願日： 2010年05月28日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：

【課題】リードエラーの発生率を低下させることを可能とするガラス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】Ts/Tg>0.8(式1)およびΔRMS<0.1Mpa(式2)を具備するガラス基板を用いることで、ガラス基板の変形や、微少クラックの発生を抑制することが可能となる。また、「応力拡散熱処理工程(S40)」の後に精密研磨工程(S50)を行なうことで、応力緩和によって変化した形状を精密研磨工程(S50)で再度整えることができ、磁気ディスクとして用いた場合には、より良好な平坦度を得ることができる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

熱アシスト磁気記録用媒体の基板として用いられ、その表面に磁気記録層が形成されるガラス基板であって、 前記磁気記録層は、当該ガラス基板上への形成後に後熱処理工程を経て形成される膜であり、前記後熱処理工程での前記ガラス基板の最高到達温度をTs、当該ガラス基板のガラス転移温度をTgとし、前記磁気記録層の前記後熱処理工程前と前記後熱処理工程後とにおけるガラス基板の全面での応力分布の偏差値の変化量をΔRMSとしたとき、下記の(式1)および(式2)を具備する、ガラス基板。 Ts/Tg>0.8・・・(式1) ΔRMS<0.1Mpa・・・(式2)

IPC (2件)：

G11B 5/73 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

G11B5/73 ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/84 A

Fターム (10件)：

5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GB01