特許

J-GLOBAL ID：201303034004125657

清浄表面を有する金属材料の製造方法

発明者： 奥村 鉄平 ,  大島 啓義 ,  緒方 章弘
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 畠山 文夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-205096
公開番号（公開出願番号）：特開2013-067822
出願日： 2011年09月20日
公開日（公表日）： 2013年04月18日
要約：

【課題】大量のH2ガスを必要とせず、処理対象が粉末であっても組織の粗大化や焼結を生じさせることがなく、しかも比較的短時間で表面近傍の酸素や炭素を除去することが可能な清浄表面を有する金属材料の製造方法を提供すること。【解決手段】チャンバー内に、H2ガスを原子状Hに分解するための触媒として機能するヒーターと、水素還元可能な金属元素を含む金属材料(但し、その融点がSnの融点以下であるものを除く)とを所定の間隔を置いて配置する設置工程と、前記チャンバー内を排気する排気工程と、前記ヒーターの加熱と前記チャンバー内へ前記H2ガスの導入とを同時に又は段階的に行い、前記ヒーターの表面において原子状Hを発生させ、前記原子状Hと前記金属材料とを反応させる反応工程とを備えた清浄表面を有する金属材料の製造方法。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

チャンバー内に、H2ガスを原子状Hに分解するための触媒として機能するヒーターと、水素還元可能な金属元素を含む金属材料(但し、その融点がSnの融点以下であるものを除く)とを所定の間隔を置いて配置する設置工程と、 前記チャンバー内を排気する排気工程と、 前記ヒーターの加熱と前記チャンバー内へ前記H2ガスの導入とを同時に又は段階的に行い、前記ヒーターの表面において原子状Hを発生させ、前記原子状Hと前記金属材料とを反応させる反応工程と を備えた清浄表面を有する金属材料の製造方法。

IPC (1件)：

C23G 5/00

FI (1件)：

C23G5/00

Fターム (10件)：

4G169AA02 ,  4G169BB02A ,  4G169BC55 ,  4G169BC56 ,  4G169BC59 ,  4G169BC60 ,  4G169CB81 ,  4G169EA03 ,  4K053RA03 ,  4K053YA04