特許
J-GLOBAL ID：201303034658064088
焦点位置補正方法、露光方法、デバイス製造方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-118957
公開番号（公開出願番号）：特開2013-246258
出願日： 2012年05月24日
公開日（公表日）： 2013年12月09日
要約：
【課題】露光装置の投影システムが有する焦点位置調整機構の補正量を求める際の手間及び時間を軽減できる焦点位置補正方法、露光方法、デバイス製造方法及び露光装置を提供すること。【解決手段】この焦点位置補正方法は、露光装置の基板ステージの基板保持面に保持された所定基板の表面の位置に関する第1位置情報を求める基板位置情報検出工程(ステップS101)と、第1位置情報に基づいて求めた所定平面の第2位置情報を第1位置情報から除去して、露光装置が有する投影システムの焦点位置調整機構の補正量を求める補正量演算工程(ステップS102)と、を含む。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
露光装置の基板ステージの基板保持面に保持された所定基板の表面の位置に関する第1位置情報を求めることと、
前記第1位置情報に基づいて求めた所定平面の位置に関する第2位置情報を前記第1位置情報から除去して、前記露光装置が有する投影システムの焦点位置調整機構の補正量を求めることと、
を含む焦点位置補正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/207 Z
, H01L21/30 526B
2H097AB01
, 2H097AB07
, 2H097BA01
, 2H097GB00
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 5F146BA03
, 5F146DA14
, 5F146DB05
, 5F146DB14
