特許
J-GLOBAL ID:201303034883552555

薄膜形成のための回転システム及びその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): SK特許業務法人 ,  奥野 彰彦 ,  伊藤 寛之 ,  石川 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-171454
公開番号(公開出願番号):特開2013-004956
出願日: 2011年08月05日
公開日(公表日): 2013年01月07日
要約:
【課題】エピタキシャル層の均一性に優れた有機金属気相成長装置を提供する。【解決手段】有機金属気相成長装置は、サセプタ回転システム100を有する。サセプタ回転システム100は、回転殻112、サセプタ110、及び該サセプタ110の下部で、回転殻110及びサセプタ112を駆動して、サセプタ軸の周りを回転するように構成されている駆動部品を含む。加えて、該サセプタ回転システム100は、サセプタ110上に配置され、該サセプタ110とともにサセプタ軸の周りを回転し、かつ1以上の基板140を支持するように構成されている1以上の基板ホルダ130と、基板ホルダを支持するホルダギア132、及び1以上のホルダギア132と係合し、1以上のホルダギア132がサセプタ軸の周りを回転する場合に、1以上のホルダギア132をそれぞれ1以上のホルダ軸の周りを回転させるように構成されている中心ギア120を含む。【選択図】図1A
請求項(抜粋):
1以上の基板上に1以上の材料の1以上の層を形成するためのシステムであって: 回転殻; 該回転殻に支持されたサセプタ部品; 該サセプタ部品の下部で、回転殻及びサセプタ部品を駆動して、サセプタ軸の周りを回転するように構成されている駆動部品; 該サセプタ部品上に配置され、サセプタ部品とともにサセプタ軸の周りを回転し、かつ1以上の基板を支持するように構成されている1以上のホルダギア;及び 該1以上のホルダギアに係合され、1以上のホルダギアがサセプタ軸の周りを回転する場合に、1以上のホルダギアをそれぞれ1以上のホルダ軸の周りに回転させるように構成されている中心ギアを含み、 ここで、サセプタ軸は、1以上のホルダ軸とは異なるものである、前記システム。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件):
H01L21/205 ,  C23C16/44 G
Fターム (16件):
4K030BB02 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA05 ,  4K030GA06 ,  4K030KA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045DP27 ,  5F045EF05 ,  5F045EM10

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